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半导体污水分为三大类：含氟废水、有机废水和金属离子废水。

为了除去污水中COD、氨氮、总氮等有机污染物，一般会采用好氧法和缺氧厌氧法相结合的方法进行处理。

金属离子污水则是根据不同的金属离子采用不同的方法，常见的方法有活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。

对于含氟废水，主要是往污水中加入钙盐，钙盐可以跟水中氟离子形成CaF2，再加上混凝剂辅助就可以去除污水中的氟离子，这就是常说的化学沉降法。

因电子半导体行业的用水率高，所以为了降低用水成本、减少对环境的污染，污水回用对于电子半导体行业的经营者是极其重要的。

半导体污水除了除了以上方法以外，还可以对污水进行电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等，在进行污水处理期间还可以去除一些杂质以及特殊的气味。

工业废水处理设备出水水质稳定，污泥产量小，易于处理。 在接触氧化槽中，采用曝气器进行鼓风曝气，使纤维束连续漂浮，曝气均匀，微生物生长成熟，并对活性污泥法进行了表征。 它具有反硝化和脱磷的能力，废水处理设备厂家，可以通过调整设备结构实现处理工业废水，生活污水和城市污水的能力。 接触氧化池中的填料大多为复合软填料，重量轻，强度高，物理化学性质稳定，比表面积大，生物膜附着力强，污水与生物膜接触

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生物膜形成的效果不明显：此时，应检查地埋式污水处理设备的曝气是否存在不均匀的失效。 如果爆1炸正常，可考虑向微生物中添加一些营养素; 曝气不均匀：在这种情况下，首先检查曝气风扇的阀门是否异常，曝气头是否已损坏。  不合格的出水水质：如果地埋式污水处理设备的水质不合格，检查进水量是否过大，曝气是否不均匀，沉淀池内的污泥是否清洗，消毒设备是否正常运行 通常，以及污水是否被消毒。