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半导体污水分为三大类:含氟废水、有机废水和金属离子废水。
为了除去污水中COD、氨氮、总氮等有机污染物,一般会采用好氧法和缺氧厌氧法相结合的方法进行处理。
金属离子污水则是根据不同的金属离子采用不同的方法,工业污水处理,常见的方法有活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。
对于含氟废水,主要是往污水中加入钙盐,钙盐可以跟水中氟离子形成CaF2,再加上混凝剂辅助就可以去除污水中的氟离子,这就是常说的化学沉降法。
因电子半导体行业的用水率高,所以为了降低用水成本、减少对环境的污染,污水回用对于电子半导体行业的经营者是极其重要的。
半导体污水除了除了以上方法以外,还可以对污水进行电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等,在进行污水处理期间还可以去除一些杂质以及特殊的气味。
对于化工废水处理设备,搅拌装置是设备中非常重要的部分。 如果化工废水处理设备的搅拌装置出现问题,则当排放污水时,化工废水处理设备将无法正常运行。化工废水处理设备的搅拌须保持足够的搅拌才能达到指1定的清洁效果。 对于新购置的化工废水处理设备,为了改善产品的使用和维护,避免产品过早老化和损坏,在使用过程中,须注意保持化工废水处理设备的通风 ,以便将工作整合在一起。 化工废水处理设备可以及时释放产生的热量,有利于设备的更好运行。
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